Aus der Forschung

Oberflächenprozesse bei der Wechselwirkung von Hochleistungsplasmen mit HPPMS-Targetoberflächen und Kunststoffen

In einem Teilchenstrahlexperiment werden elementare Plasmaprozesse auf Oberflächen nachgeahmt, indem quantisierte Strahlen von Atomen oder Ionen auf Metall- oder Kunststoffoberflächen geschickt werden. Dabei wird die Erzeugung von Sekundärelektronen, das reaktive Sputtern und Schichtwachstum direkt untersucht. Weiterhin wird die Plasmaaktivierung von Kunststoffoberflächen, Barrieren und Membranen analysiert. 

Im in-vacuo XPS-HPPMS-System können Parameter eines HPPMS-Plasmas mit einer XPS-Analyse der Target-Oberfläche verknüpft werden. Mit Hilfe von gepfropften HPPMS-Targets wird der räumliche Transport von Metallatomen in den HPPMS-Plasmen untersucht. Verschiedene Al-Cr-Ti Komposit- und pulvermetallurgisch hergestellte Targets werden in reaktivem Ar/O2-Gasgemisch gesputtert und anschließend analysiert. Für verschiedene Substrate werden Plasmabehandlungen mit unterschiedlichen Parametern durchgeführt und die jeweilige Wirkung des Plasmas auf die Substratoberfläche mittels XPS analysiert.